離子色譜法對氮化硅提取液中陰離子的測定
氮化硅提取液中陰離子的測定
氮化硅是一種重要的新型結構陶瓷材料。它具有高密度、超硬度、潤滑性、耐磨損、耐腐蝕和耐高溫且不易傳熱等優(yōu)點,可用于制造軸承、氣輪機葉片、永久性模、陶瓷密封環(huán)、等機械構件以及熱電偶管、火箭噴嘴、熔解金屬的坩堝等高溫零部件。
由于氮化硅中陰離子雜質尤其是鹵素會對相關接觸部件造成嚴重腐蝕,從而影響構件的機械強度和密封環(huán)的密封效果,所以對氮化硅中陰離子雜質的準確測定具有重要意義。
色譜柱條件
分析柱:盛瀚SH-G-1+SH-AC-11
流動相:14 mM KOH(EG)
流速:1.0 mL/min
柱溫:35 ℃
抑制器:SHY-A-6
進樣體積:25 μL
前處理:樣品經(jīng)0.22 μm濾膜過濾后進樣分析。
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