ASTM E2244-02
用光學(xué)干涉儀測量反射薄膜共面長度的標準試驗方法

Standard Test Method for In-Plane Length Measurements of Thin, Reflecting Films Using an Optical Interferometer

被代替

適用范圍: 1.1 本測試方法涵蓋了測量圖案化薄膜面內(nèi)長度（包括偏轉(zhuǎn)）的程序。它僅適用于薄膜，例如微機電系統(tǒng) (MEMS) 材料中的薄膜，可以使用干涉儀對其進行成像。
1.2 還有其他方法可以確定面內(nèi)長度。使用設(shè)計尺寸通常比使用光學(xué)干涉儀進行的測量提供更精確的面內(nèi)長度值。（干涉測量通常比使用光學(xué)顯微鏡進行的測量更精確。）該測試方法適用于當(dāng)干涉測量優(yōu)于使用設(shè)計尺寸時（例如，測量面內(nèi)偏轉(zhuǎn)時以及在未經(jīng)證實的情況下測量長度時）。制造過程）。
1.3 該測試方法使用非接觸式光學(xué)干涉儀，能夠獲取地形 3-D 數(shù)據(jù)集。它是在實驗室中進行的。
1.4 測量的最大面內(nèi)長度由干涉儀在最低放大倍率下的最大視場決定。測量的最小偏轉(zhuǎn)由干涉儀在最高放大倍率下的像素間距決定。
1.5 本標準并不旨在解決與其使用相關(guān)的所有安全問題（如果有）。本標準的使用者有責(zé)任在使用前建立適當(dāng)?shù)陌踩徒】祵嵺`并確定監(jiān)管限制的適用性。