ASTM E2444-11(2018)
標(biāo)準術(shù)語 涉及對薄膜 反射膜的測量
Standard Terminology Relating to Measurements Taken on Thin, Reflecting Films
- 標(biāo)準號
- ASTM E2444-11(2018)
- 發(fā)布
- 2018年
- 總頁數(shù)
- 2頁
- 發(fā)布單位
- 美國材料與試驗協(xié)會
- 當(dāng)前最新
- ASTM E2444-11(2018)
- 引用標(biāo)準
- ASTM E1823 ASTM E2244 ASTM E2245 ASTM E2246
- 適用范圍
- 1.1 本標(biāo)準包含與在反射薄膜上進行的測量有關(guān)的術(shù)語和定義，例如微機電系統(tǒng) (MEMS) 材料中的薄膜。特別是，這些術(shù)語與第 2 節(jié)中的標(biāo)準相關(guān)，該標(biāo)準由疲勞和斷裂委員會 E08 制定。疲勞和斷裂試驗相關(guān)術(shù)語E1823適用于本標(biāo)準。
1.2 術(shù)語按字母順序列出。
1.3 本國際標(biāo)準是根據(jù)世界貿(mào)易組織貿(mào)易技術(shù)壁壘（TBT）委員會發(fā)布的《關(guān)于制定國際標(biāo)準、指南和建議的原則的決定》中確立的國際公認的標(biāo)準化原則制定的。
| 術(shù)語 | 描述 |
|---|---|
| 懸臂 cantilever | 自由端梁，固定在一端 |
| 殘余應(yīng)變 residual strain | 結(jié)構(gòu)層在制造后但在去除犧牲層之前受到的約束變形量 |
ASTM E2444-11(2018) 中提到的儀器設(shè)備
| 干涉儀 | 用于非接觸式光學(xué)測量，獲取三維地形數(shù)據(jù)集 |
