VDI/VDE 5575 BLATT 4-2017
X射線光學系統(tǒng) X射線反射鏡和X射線反射鏡系統(tǒng) 全反射鏡和多層反射鏡
X-ray optical systems - X-ray mirrors and X-ray mirror systems - Total reflection mirrors and multilayer mirrors
- 標準號
- VDI/VDE 5575 BLATT 4-2017
- 發(fā)布
- 2017年
- 發(fā)布單位
- VDI - Verein Deutscher Ingenieure
- 替代標準
- VDI/VDE 5575 BLATT 4:2018
- 當前最新
- VDI/VDE 5575 BLATT 4:2018
專題
VDI/VDE 5575 BLATT 4-2017相似標準
推薦
軟X射線的發(fā)展背景
70年代后，隨著超光滑表面加工技術和超薄膜制備技術的不斷提高，目前人們制備的13nm Mo/Si多層膜反射率已接近70%，這使人們利用多層膜反射鏡集成軟X射線投影光刻系統(tǒng)成為可能。...
上海光機所13.5nm軟x射線反射鏡反射率最高值達到67.8%
如同可見區(qū)高反射膜，軟x射線反射膜也需要兩種折射率差較大的材料配對，通過多層界面反射光的相干疊加增強反射率。現(xiàn)有可用材料均對軟x射線存在吸收，使得高反射率反射鏡的設計和制備存在很大難度。 中科院強激光材料重點實驗室采用超光滑Si片做基底，并進行精細表面清洗處理，使用磁控濺射技術精確控制薄膜周期厚度及結構。...
用于制造 X 射線熒光分析全反射鏡的高質量表面精磨工藝
01 導言 X 射線反射鏡是一種能反射和聚焦短波長 X 射線（束）的反射光學元件，廣泛應用于各種分析儀器中。為了有效表征 X 射線的光學和物理性質，各種反射鏡形態(tài)須達到平均粗糙度在亞納米級的高表面精度。便攜式 X 射線元素分析儀基于全反射 X 射線熒光 (TXRF) 分析技術構建，應用于需要超痕量分析和高質量反射鏡等多個領域。此類反射鏡呈平面形態(tài)且尺寸小，由于其成本限制，需要提高生產率。...
X射線激光器的結構組成
X射線激光器和普通激光器類似，可由驅動源、工作物質和諧振腔三部分組成。驅動源是高功率激光器、高壓放電裝置甚至核裝置等能向工作物質饋送能量的激勵裝置，普遍采用的是高功率激光器。工作物質是驅動源產生的等離子體，所以這種激光也稱為等離子體X射線激光。軟X射線激光的光腔由多層膜X射線反射鏡、多層膜輸出耦合(分光)鏡和工作物質組成。...