ASTM D5381-93(1998)由美國材料與試驗(yàn)協(xié)會 US-ASTM 發(fā)布于 1993。
ASTM D5381-93(1998) 在中國標(biāo)準(zhǔn)分類中歸屬于: G50 涂料基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法。
ASTM D5381-93(1998) 顏料和填充劑的X射線螢光(XRF)光譜分析的最新版本是哪一版？
最新版本是 ASTM D5381-93(2021) 。
1.1 本指南涵蓋了正確使用 X 射線熒光 (XRF) 光譜的一般注意事項(xiàng)。由于 XRF 儀器之間存在許多差異，因此未提供詳細(xì)的操作說明。分析人員應(yīng)遵循制造商為其儀器提供的說明。
1.2 鼓勵分析人員查閱化學(xué)文獻(xiàn)、各種行業(yè)期刊、顏料供應(yīng)商出版物等以及制造商的儀器手冊。
1.3 XRF 通常與其他分析技術(shù)結(jié)合使用來測定無機(jī)顏料和增量劑中存在的元素。有機(jī)顏料通常不能僅通過 XRF 來識別。有時(shí)，有機(jī)顏料含有較重的元素，可以區(qū)分這些顏料的主要類別，或者可以用于區(qū)分兩種不同顏料中的一種。然而，分析人員應(yīng)對僅通過 XRF 技術(shù)進(jìn)行定性顏料鑒定保持警惕。
1.4 本標(biāo)準(zhǔn)并不旨在解決與其使用相關(guān)的所有安全問題（如果有）。本標(biāo)準(zhǔn)的使用者有責(zé)任在使用前建立適當(dāng)?shù)陌踩徒】祵?shí)踐并確定監(jiān)管限制的適用性。有關(guān)具體危險(xiǎn)信息，請參閱第 3 節(jié)“輻射問題”。
由于電子本能會尋求穩(wěn)定，外層L層或M層的電子會進(jìn)入彌補(bǔ)內(nèi)層的空間。在這些電子從外層進(jìn)入內(nèi)層的過程中，它們會釋放出能量，稱之為二次X射線光子。而整個(gè)過程則稱為螢光輻射。每種元素的二次射線都各有特征。而X射線光子螢光輻射產(chǎn)生的能量是由電子轉(zhuǎn)換過程中內(nèi)層和外層之間的能量差決定的。特定元素在一定時(shí)間內(nèi)所放射出來的X射線的數(shù)量或者密度，能夠用來衡量這種元素的數(shù)量。...
由于電子本能會尋求穩(wěn)定，外層L層或M層的電子會進(jìn)入彌補(bǔ)內(nèi)層的空間。在這些電子從外層進(jìn)入內(nèi)層的過程中，它們會釋放出能量，稱之為二次X射線光子。而整個(gè)過程則稱為螢光輻射。每種元素的二次射線都各有特征。而X射線光子螢光輻射產(chǎn)生的能量是由電子轉(zhuǎn)換過程中內(nèi)層和外層之間的能量差決定的。特定元素在一定時(shí)間內(nèi)所放射出來的X射線的數(shù)量或者密度，能夠用來衡量這種元素的數(shù)量。...
從元素周期表中的原子數(shù)可以得知質(zhì)子的數(shù)目。 每一個(gè)原子數(shù)都對應(yīng)固定的元素名稱。能量色散X螢光與波長色散X螢光光譜分析技術(shù)特別研究與應(yīng)用了*里層三個(gè)電子軌道即K，L，M上的活動情況，其中K軌道*為接近核子，每個(gè)電子軌道則對應(yīng)某元素一個(gè)個(gè)特定的能量層。 在XRF分析法中，從X光發(fā)射管里放射出來的高能初級射線光子會撞擊樣本元素。...
從元素周期表中的原子數(shù)我們則可以得知質(zhì)子的數(shù)目。每一個(gè)原子數(shù)都對應(yīng)固定的元素名稱，例如鐵，元素名是Fe，原子數(shù)是26。 能量色散X螢光與波長色散X螢光光譜分析技術(shù)特別研究與應(yīng)用了最里層三個(gè)電子軌道即K，L，M上的活動情況，其中K軌道最為接近核子，每個(gè)電子軌道則對應(yīng)某元素一個(gè)個(gè)特定的能量層（伊諾斯合金分析儀中國服務(wù)商）?！ ≡?em>XRF分析法中，從X光發(fā)射管里放射出來的高能初級射線光子會撞擊樣本元素。...
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