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ASTM F2405-04(2011)
用高質量分辨率輝光放電質譜儀測量高純度銅中痕量金屬雜質的標準試驗方法

Standard Test Method for Trace Metallic Impurities in High Purity Copper by High-Mass-Resolution Glow Discharge Mass Spectrometer


標準號
ASTM F2405-04(2011)
發(fā)布
2004年
總頁數
5頁
發(fā)布單位
美國材料與試驗協會
當前最新
ASTM F2405-04(2011)
 
 
引用標準
ASTM E135 ASTM E173 ASTM E180 ASTM E691 ASTM E876 ASTM F1593
適用范圍
該測試方法適用于半導體行業(yè)，用于評估薄膜金屬化工藝中使用的材料（例如濺射靶材、蒸發(fā)源）的純度。根據有關各方商定，該測試方法可能在負責技術委員會未設想的其他應用中有用。該測試方法旨在供各個實驗室的 GDMS 分析人員使用，以統一測定銅中痕量雜質的方案和參數。目的是提高實驗室間分析數據的一致性。該測試方法還針對 GDMS 分析的用戶，以幫助他們了解測定方法以及報告的 GDMS 數據的重要性和可靠性。對于大多數金屬物質，常規(guī)分析的檢測限約為 0.01 wt。百萬分之一。通過特殊的預防措施，檢測限可以達到亞 ppb 水平。本測試方法可作為電子級銅材料生產者和用戶的參考方法。
1.1 本測試方法涵蓋高純度（99.95wt.%純，或更高純度，相對于微量金屬）微量金屬雜質的濃度。雜質）電子級銅。
1.2 本試驗方法適用于扇形磁輝放電質譜儀（GDMS）分析。
1.3 該測試方法不包括完成 GDMS 分析所需的所有信息。需要由經驗豐富的操作員熟練使用的先進計算機控制實驗室設備才能達到所需的靈敏度。該測試方法確實涵蓋了負責技術委員會已知的影響高純度銅分析可靠性的特定因素（例如，樣品制備、相對靈敏度因素的設置、檢測限的確定等）。
1.4 本標準并不旨在解決與其使用相關的所有安全問題（如果有）。本標準的使用者有責任在使用前建立適當的安全和健康實踐并確定監(jiān)管限制的適用性。

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專題

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