DIN EN ISO 11151-1:2000
激光和激光設(shè)備.標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)元件.第1部分:紫外線、可見(jiàn)光和近紅外線光譜范圍用元件
Lasers and laser-related equipment - Standard optical components - Part 1: Components for the ultraviolet, visible and near-infrared spectral range (ISO 11151-1:2000); German version EN ISO 11151-1:2000
- 標(biāo)準(zhǔn)號(hào)
- DIN EN ISO 11151-1:2000
- 發(fā)布
- 2000年
- 發(fā)布單位
- 德國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)會(huì)
- 替代標(biāo)準(zhǔn)
- DIN EN ISO 11151-1:2015
- DIN EN ISO 11151-1 E:2013
- 當(dāng)前最新
- DIN EN ISO 11151-1:2015-12
- 被代替標(biāo)準(zhǔn)
- DIN EN ISO 11151-1:1998
專題
DIN EN ISO 11151-1:2000相似標(biāo)準(zhǔn)
推薦
金屬鍍膜
標(biāo)準(zhǔn)公制反射鏡鍍膜規(guī)格保護(hù)性鋁膜保護(hù)性鋁膜是我們最暢銷的反射鏡膜，應(yīng)用于可見(jiàn)光和近紅外線。一氧化碳(SiO)的一半波長(zhǎng)用作大衣，以保護(hù)脆弱的鋁。這種方法提供了耐磨的表面，同時(shí)保持鋁的性能。增強(qiáng)型鋁膜和紫外加硬鋁膜鋁表面的多層介質(zhì)膜用于增強(qiáng)可見(jiàn)光或紫外線區(qū)域的反射。增強(qiáng)性鋁膜是應(yīng)用于 400-650nm 增加反射的理想選擇，而紫外線增強(qiáng)性鋁膜適用于 250nm-400nm 產(chǎn)生增加的反射。...
LAYERTEC鍍膜和生產(chǎn)檢測(cè)技術(shù)
LAYERTEC擁有精密光學(xué)設(shè)備和各種涂層技術(shù)（磁控濺射、離子束濺射、熱蒸發(fā)、離子輔助電子束蒸發(fā)），這使得LAYERTEC能夠在整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程中控制光學(xué)元件的質(zhì)量，從基板的研磨、拋光和清洗到最終的涂層過(guò)程。目前，約有300名員工在LAYERTEC的精密光學(xué)設(shè)備和涂層實(shí)驗(yàn)室工作，40臺(tái)涂層機(jī)可覆蓋從真空紫外線到近紅外線的波長(zhǎng)范圍，使用由氟化物和氧化物、金屬和金屬-介質(zhì)涂層制成的濺射和蒸發(fā)涂層。...
光譜分析，如何選擇合適的光源？
使用這些光源和我們的軟件，您可以確定紫外線、可見(jiàn)光和近紅外波長(zhǎng)的絕對(duì)強(qiáng)度值。還可提供擴(kuò)展范圍（至 2400 nm）校準(zhǔn)選項(xiàng)。輻射校準(zhǔn)光源經(jīng)過(guò)仔細(xì)鑒定，可提供已知數(shù)量的光，不確定性極低。每個(gè)光源都按照 NIST 可追溯標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行測(cè)量，從而建立了一個(gè)完整的可追溯鏈，為您提供最高質(zhì)量和最可靠的數(shù)據(jù)。光譜儀波長(zhǎng)校準(zhǔn)源光譜儀波長(zhǎng)校準(zhǔn)源可用于方便、可靠的紫外-近紅外波長(zhǎng)光譜儀校準(zhǔn)。...
陣列式與掃描式 紫外可見(jiàn)分光光度計(jì)對(duì)比
陣列分光光度計(jì)是一種創(chuàng)新的方法，可基于反向光學(xué)技術(shù)加快一次完整光譜掃描的速度。這種沒(méi)有任何移動(dòng)光學(xué)元件的強(qiáng)大設(shè)計(jì)可確保絕佳的光學(xué)性能，且維護(hù)成本相對(duì)較低。因此這種儀器也更簡(jiǎn)單一些，零件損壞或失效的幾率降低。在梅特勒-托利多的全新陣列分光光度計(jì)中，光源由一個(gè)氙閃爍燈組成，可生成紫外光、可見(jiàn)光和部分近紅外光波長(zhǎng)，涵蓋了從190到1100 nm的光學(xué)范圍。...