ISO 14706:2014
表面化學(xué)分析 用總反射X-射線熒光(TXRF)測(cè)定法測(cè)定硅晶片的表面基本的污染
Surface chemical analysis - Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
ISO 14706:2014 中，可能用到以下儀器設(shè)備
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- 標(biāo)準(zhǔn)號(hào)
- ISO 14706:2014
- 發(fā)布
- 2014年
- 中文版
- GB/T 40110-2021 (等同采用的中文版本)
- 發(fā)布單位
- 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織
- 當(dāng)前最新
- ISO 14706:2014
- 引用標(biāo)準(zhǔn)
- ISO 14644-1:1999 ISO 5725-2:1994
ISO 14706:2014相似標(biāo)準(zhǔn)
JIS K 0148:2005 表面化學(xué)分析.用總反射X-射線熒光(TXRF)測(cè)定法測(cè)定硅晶片的表面主要污染物
GB/T 40110-2021 表面化學(xué)分析 全反射X射線熒光光譜法（TXRF）測(cè)定硅片表面元素污染
BS ISO 14706:2000 表面化學(xué)分析.采用全反射X射線熒光(TXRF)光譜法對(duì)硅片表面元素污染物的測(cè)定
BS ISO 14706:2001 表面化學(xué)分析 采用全反射X射線熒光（TXRF）光譜法對(duì)硅片表面元素污染物的測(cè)定
BS ISO 14706:2014 表面化學(xué)分析.采用全反射X射線熒光(TXRF)光譜法對(duì)硅片表面元素污染物的測(cè)定