x射線 全反射
本專題涉及x射線 全反射的標準有18條。
國際標準分類中，x射線 全反射涉及到分析化學。
在中國標準分類中，x射線 全反射涉及到基礎(chǔ)標準與通用方法、半金屬及半導體材料分析方法。
國家市場監(jiān)督管理總局、中國國家標準化管理委員會，關(guān)于x射線 全反射的標準
- GB/T 40110-2021 表面化學分析 全反射X射線熒光光譜法（TXRF）測定硅片表面元素污染
國家質(zhì)檢總局，關(guān)于x射線 全反射的標準
- GB/T 30701-2014 表面化學分析 硅片工作標準樣品表面元素的化學收集方法和全反射X射線熒光光譜法(TXRF)測定
英國標準學會，關(guān)于x射線 全反射的標準
- BS PD ISO/TS 18507-2015 表面化學分析. 全反射X射線熒光光譜法在生物和環(huán)境分析中的使用
- BS PD ISO/TS 18507-2015 表面化學分析. 全反射X射線熒光光譜法在生物和環(huán)境分析中的使用
- BS ISO 14706-2014 表面化學分析.采用全反射X射線熒光(TXRF)光譜法對硅片表面元素污染物的測定
- BS ISO 14706-2014 表面化學分析.采用全反射X射線熒光(TXRF)光譜法對硅片表面元素污染物的測定
- BS ISO 17331-2004+A1-2010 表面化學分析.從硅片工作標準物質(zhì)表面采集元素的化學方法及其全反射X射線熒光光譜(TXRF)法的測定
- BS ISO 14706-2000 表面化學分析.采用全反射X射線熒光(TXRF)光譜法對硅片表面元素污染物的測定
國際標準化組織，關(guān)于x射線 全反射的標準
- ISO/TS 18507:2015 表面化學分析 - 全反射X射線熒光光譜在生物和環(huán)境分析中的應用
- ISO/TS 18507-2015 表面化學分析. 全反射X射線熒光光譜法在生物和環(huán)境分析中的使用
- ISO 14706:2014 表面化學分析 - 通過全反射X射線熒光（TXRF）光譜測定硅晶片上的表面元素污染
- ISO 17331-2004/Amd 1-2010 表面化學分析.硅片工作標準物質(zhì)表面元素收集及其全反射X射線熒光光譜測定的化學方法.修改件1
- ISO 17331:2004 表面化學分析——硅片工作標準物質(zhì)表面元素收集的化學方法及其全反射X射線熒光光譜測定
- ISO 17331-2004 表面化學分析.從硅片工作基準材料表面采集元素的化學方法及其全反射X射線熒光光譜法的測定
德國標準化學會，關(guān)于x射線 全反射的標準
- DIN 51003-2004 全反射X-射線熒光.總則和定義
韓國標準，關(guān)于x射線 全反射的標準
- KS D ISO 14706-2003 表面化學分析.用全反射X射線熒光光譜法測定硅圓片表面主要污物
- KS D ISO 14706-2003 表面化學分析.用全反射X射線熒光光譜法測定硅圓片表面主要污物
，關(guān)于x射線 全反射的標準
- KS D ISO 14706-2003(2018) 表面化學分析-全反射X-射線熒光分析儀測定硅片表面元素雜質(zhì)
