俄歇電子射線
本專題涉及俄歇電子射線的標(biāo)準有7條。
國際標(biāo)準分類中，俄歇電子射線涉及到電學(xué)、磁學(xué)、電和磁的測量、電子元器件綜合、分析化學(xué)、光學(xué)設(shè)備、光學(xué)和光學(xué)測量。
在中國標(biāo)準分類中，俄歇電子射線涉及到綜合測試系統(tǒng)、標(biāo)準化、質(zhì)量管理、基礎(chǔ)標(biāo)準與通用方法、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器。
國家質(zhì)檢總局，關(guān)于俄歇電子射線的標(biāo)準
- GB/T 31470-2015 俄歇電子能譜與X射線光電子能譜測試中確定檢測信號對應(yīng)樣品區(qū)域的通則
- GB/T 28893-2012 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.測定峰強度的方法和報告結(jié)果所需的信息
- GB/T 28632-2012 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測定
- GB/T 29556-2013 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率、分析面積和分析器所能檢測到的樣品面積的測定
- GB/T 26533-2011 俄歇電子能譜分析方法通則
行業(yè)標(biāo)準-電子，關(guān)于俄歇電子射線的標(biāo)準
- SJ/T 10458-1993 俄歇電子能譜術(shù)和X射線光電子能譜術(shù)的樣品處理標(biāo)準導(dǎo)則
國家市場監(jiān)督管理總局、中國國家標(biāo)準化管理委員會，關(guān)于俄歇電子射線的標(biāo)準
- GB/T 41064-2021 表面化學(xué)分析 深度剖析 用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中深度剖析濺射速率的方法
