全反射x射線熒光
本專題涉及全反射x射線熒光的標(biāo)準(zhǔn)有17條。
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類中，全反射x射線熒光涉及到分析化學(xué)、金屬材料試驗(yàn)。
在中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類中，全反射x射線熒光涉及到基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、金屬物理性能試驗(yàn)方法。
國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局、中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)，關(guān)于全反射x射線熒光的標(biāo)準(zhǔn)
- GB/T 40110-2021 表面化學(xué)分析 全反射X射線熒光光譜法（TXRF）測(cè)定硅片表面元素污染
國(guó)家質(zhì)檢總局，關(guān)于全反射x射線熒光的標(biāo)準(zhǔn)
- GB/T 24578-2024 半導(dǎo)體晶片表面金屬沾污的測(cè)定 全反射X射線熒光光譜法
- GB/T 30701-2014 表面化學(xué)分析 硅片工作標(biāo)準(zhǔn)樣品表面元素的化學(xué)收集方法和全反射X射線熒光光譜法(TXRF)測(cè)定
- GB/T 42360-2023 表面化學(xué)分析 水的全反射X射線熒光光譜分析
德國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)會(huì)，關(guān)于全反射x射線熒光的標(biāo)準(zhǔn)
- DIN 51003 E:2021-05 全反射X-射線熒光 總則和定義
- DIN 51003:2022 全反射 X 射線熒光 原理和定義
- DIN 51003:2022-05 全反射X-射線熒光 總則和定義
- DIN 51003:2004 全反射X-射線熒光.總則和定義
- DIN 51003:2021-05 草案 全反射 x 射線熒光 原理和定義
- DIN 51003 E:2021 文件草案 全反射 X 射線熒光 原則和定義
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于全反射x射線熒光的標(biāo)準(zhǔn)
- ISO 20289:2018 表面化學(xué)分析.水的全反射X射線熒光分析
英國(guó)標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會(huì)，關(guān)于全反射x射線熒光的標(biāo)準(zhǔn)
- BS ISO 20289:2018 表面化學(xué)分析 水的全反射X射線熒光分析
- 24/30482073 DC BS ISO 20289 表面化學(xué)分析 水的全反射X射線熒光分析
- 25/30474488 DC BS ISO 16666 表面化學(xué)分析 全反射 X 射線熒光 原理和一般要求
- PD ISO/TS 18507:2015 表面化學(xué)分析 全反射 X 射線熒光光譜在生物和環(huán)境分析中的應(yīng)用
日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會(huì)，關(guān)于全反射x射線熒光的標(biāo)準(zhǔn)
- JIS K 0181:2021 表面化學(xué)分析 水的全反射X射線熒光分析
韓國(guó)科技標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于全反射x射線熒光的標(biāo)準(zhǔn)
- KS D ISO 14706-2003(2018) 表面化學(xué)分析-全反射X-射線熒光分析儀測(cè)定硅片表面元素雜質(zhì)
